服务电话:010-62577305
当前位置:首页找资源开放实验室- 详细信息
实验室名称 微米纳米加工技术国家级重点实验室(联合)
所属领域 新材料
所属类型 国家级重点实验室
认定部门 科技部
认定时间 1998年
依托单位 北京大学
主任 王阳元、张大成、郝一龙
领衔专家 1.科研队伍 在进行硬件建设的同时重点实验室更重视与之配套的软件建设。目前重点实验室有包括教授、研究员、工程师、实验师和实验员在内的各类技术人员30余名,平均年龄36岁。年轻且富有经验研究队伍构成了实验室发展的强劲动力。特别是专业的工艺研究人员和设备维修人员队伍为重点实验室开展广泛的对外合作和技术服务以及实验环境的正常运行提供了有力的技术保证。另外重点实验室每年还培养十余名硕士生,5-6名博士生。同时还有4-5名博士后人员进站工作。 2.骨干专家 王阳元,中国科学院院士,教授,博士生导师。1958年毕业于北京大学物理系物理专业。主要研究领域是微纳电子器件物理;新结构微纳电子器件;超大规模集成电路制备工艺;射频集成电路技术;微电子发展战略。 张兴,北京大学长江计划特聘教授, 博士生导师。1982年北京大学电子学系毕业,1988年在美国获物理学博士学位。主要研究的领域是纳米电子学材料的设计、制备;纳米电子学基本单元器件物理;基于电子衍射的结构分析方法。
平台 新材料技术支撑平台
服务内容 微米/纳米加工技术国家重点实验室创建于1996年,1998年正式投入运行,拥有600平方米超净间,具有国际先进水平的关键加工设备。近5年来承担了150余项国家各类MEMS研究课题,并为来自国内外100多家单位的开展加工服务,研制成功了20余种MEMS新器件,其中微加速度计、微陀螺、PIN探测器和GaN微波功率器件等对国民经济和国家安全产生了重要影响。经过十多年的建设运行,实验室成为在国内外具有重要影响的MEMS研发基地。实验室有超净间900平方米,其中百级面积为90平方米。80余台套各种工艺实验和检测分析设备价值近8000万元,其中百分之80为九十年代进口设备。齐全完善的设备配套能够满足高速双极电路、CMOS/SOI电路,特别是硅MEMS器件研究加工的需求。 在以硅工艺为基础的MEMS加工技术研究方面,实验室首次在国内引进了英国STS公司生产的高深宽比硅刻蚀的ICP ASE、高密度等离子刻蚀系统高深宽比氧化硅刻蚀系统ICP AOE、高密度等离子金属刻蚀系统ICP METAL ETCHING和低应力薄膜等离子增强化学汽相淀积系统STS PECVD,德国KARL SUSS公司生产的可双面光刻、键合对准系统MA/BA6、静电及热键合系统SB6,还有ASM 公司的LB35低压化学汽相淀积系统。这些世界一流的MEMS工艺研究设备使我国在硅MEMS技术研究方面有了与国际先进水平对话的“共同语言”。
联系方式
机构名称 北京北达燕园微构分析测试中心有限公司
负责人 江向峰
联系人 马 靖
电话 4000064028
邮箱 bdjd@pku.edu.cn
地址 北京海淀中关村北大街116号北京大学科技园2112
邮编 100871
服务功能目录
名称