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设备名称 扩散炉(lpcvd)
所属领域 电子信息
所在单位 中科院
厂商及型号规格 N.A.
性能参数 片内均匀性:<±3%;片间均匀性:<±5%;温度:≤1000oC
主要功能及应用领域 Si3N4、多晶硅成膜(4")
仪器原值(万元) 198.5
启用时间 2009
联系方式
机构名称 北京科岳中科科技服务有限公司(中国科学院北京国家技术转移中心)
负责人 刘庆莲
联系人 张利军
电话 010-82628024
邮箱 zhanglj@cashq.ac.cn
地址 北京市海淀区中关村保福寺100 号103 室
邮编 100086