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设备名称 磁控溅射仪
所属领域 新材料
所在单位 中科院
厂商及型号规格 ACS-4000-C4
性能参数 四靶磁控溅射设备,采用射频电源,可实现金属薄膜或非金属薄膜的生长,可以进行多靶溅射成膜及反应溅射成膜
主要功能及应用领域 1、溅射薄膜均匀度:5%;2、Deposition Chamber压强:4.4×10-6Pa;3、Preparation chamber压强:6.7×10-4Pa;4、基片旋转:3-100rpm;5、基片加热温度:Maximum 500℃;6、四靶可以同时溅射;7、可进行氮化物与氧化物的反应溅射;8、基片最大尺寸为4"
仪器原值(万元) 14.5
启用时间 2009
联系方式
机构名称 北京科岳中科科技服务有限公司(中国科学院北京国家技术转移中心)
负责人 刘庆莲
联系人 张利军
电话 010-82628024
邮箱 zhanglj@cashq.ac.cn
地址 北京市海淀区中关村保福寺100 号103 室
邮编 100086