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设备名称 脉冲激光溅射沉积
所属领域 电子信息
所在单位 北京工业大学
厂商及型号规格 沈阳PLD-ⅢF型
性能参数 生长二氧化硅和氮化硅等材料,其真空腔室的真空度能够达到10E-4Pa
主要功能及应用领域 生长二氧化硅和氮化硅等材料
仪器原值(万元) 21.0
启用时间 2010
联系方式
机构名称 北京工大智源科技发展有限公司
负责人 王 锋
联系人 王金国
电话 010-67391497
邮箱 kjckfs2@bjut.edu.cn
地址 北京市朝阳区平乐园100号
邮编 100124