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设备名称 等离子体刻蚀机
所属领域 电子信息
所在单位 北京大学
厂商及型号规格 STS公司/STS AOE
性能参数 真空度10^(7)T,刻蚀速率(SiO2)3000埃/分,对光刻胶选择比>5,均匀性±5%,侧壁垂直度90°±1°
主要功能及应用领域 可刻蚀二氧化硅、Si、SiN、光胶乙刻等薄膜,并可切换成RIE使用
仪器原值(万元) 652.0399780273438
启用时间 2009
联系方式
机构名称 北京北达燕园微构分析测试中心有限公司
负责人 江向峰
联系人 马 靖
电话 010-62423361 4000064028
邮箱 mj@labpku.com
地址 北京海淀中关村北大街116号北京大学科技园2112
邮编 100084