服务电话:010-62577305
当前位置:首页找资源仪器设备详细信息
设备名称 锗硅外延系统
英文名称 SiGe Epitaxy
所属领域 新材料
所在单位 清华大学
厂商及型号规格 美国应用材料公司 AppliedCentraRPEPi
图片
性能参数 8、6、5英寸硅片,极限真空度:10mTorr,均匀性:1%
主要功能及应用领域 外延生长锗硅薄膜材料
仪器原值(万元) 1280万元
启用时间 2005-05
联系方式
机构名称 科威国际技术转移有限公司
负责人 谭鸿鑫
联系人 杨 楠
电话 010-62795180-509
邮箱 yangn@ittc.com.cn
地址 海淀区中关村东路1号清华科技园科技大厦B座701B/D室
邮编 100084