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设备名称 高温金属有机物化学气相沉积系统
英文名称 High-temperature metal-organic chemical vapor deposition system
所属领域 生物医药
所在单位 人工微结构与介观物理国家重点实验室
厂商及型号规格 AIXTRON 3x2 FT
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性能参数 "高温 MOCVD系统(3X2” Flip Top CCS MOCVD System)其主要特征是反应室能达到1300摄氏度以上的高温,为实现高质量AlN基半导体材料提供制备手段。主要组成部分包括:
主要功能及应用领域 CCS MOCVD:反应室部分,材料制备的最关键部分,包括加热器,样品托;Gas Delivery system:气路部分,包括气动阀门以及压力和流量监控;Process Control:控制电路部分;Gas Purification:气体纯化部分,包括氢气,氮气和氨气的纯化器;Process Demonstration:生长过程监控;Peripheral system:外围部分,包括循环冷却水,尾气处理以及金属源的冷阱等。"(1)生长温度可以到1300摄氏度以上;
仪器原值(万元) 806.4
启用时间 2013-11-26
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