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设备名称 离子束曝光机
英文名称 Ion beam lithography, deposition and milling system IonLine
所属领域 新材料
所在单位 北京大学
厂商及型号规格 RAITH IONLINE pecifications:1. Beam size:8.0 nm at 30kV with 1pA beam current.2. Maximum beam energy up to 40 kV.3. ithography specifications:Minimum patterning size (milling): mini. width≦10.0nm;stitching and overlay accuracy in 50μm write field at 30keV:≦60.0 nm(|mean|+2σ).4. Gas injection system: 5gases(Water, Insulator,Tungsten,Fluorine and platinum line);Minimum deposited line width ≦60.0 nm.5. 4-inch wafer holder, 3D module holder and 100mm universal flat holder; automated height sensing.
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性能参数 Specifications:1. Beam size:8.0 nm at 30kV with 1pA beam current.2. Maximum beam energy up to 40 kV.3. Lithography specifications:Minimum patterning size (milling): mini. width≦10.0nm;stitching and overlay accuracy in 50μm write field at 30keV:≦60.0 nm(|mean|+2σ).4. Gas injection system: 5gases(Water, Insulator,Tungsten,Fluorine and platinum line);Minimum deposited line width ≦60.0 nm.5. 4-inch wafer holder, 3D module holder and 100mm universal flat holder; automated height sensing.
主要功能及应用领域 功能特色:离子束曝光/沉积/刻蚀系统,Ion beam lithography, deposition and milling system IonLine,离子线系统是集聚焦离子束和激光干涉控制样品台等技术于一体的微纳曝光、沉积和刻蚀系统;在微纳器件的大尺寸的拼接和集成制作方面具有很大的优势。
仪器原值(万元) 574万元
启用时间 2011-09-30
联系方式
机构名称 北京北达燕园微构分析测试中心有限公司
负责人 江向峰
联系人 马 靖
电话 4000064028
邮箱 bdjd@pku.edu.cn
地址 北京海淀中关村北大街116号北京大学科技园2112
邮编 100871